科技改变生活 · 科技引领未来
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光刻机是芯片制造九大核心设备之首，它被誉为芯片制造业皇冠上的明珠。它将40多个学科的最新成就融合，是所有半导体制造设备中技术难度最大、成本最高的设备。
目前，全球只有只有四家能够造出光刻机的企业，那就是荷兰ASML、日本佳能和尼康和上海微电子四家公司。但是这四家公司的地位不是并列的，能够研发出最先进的、5nm及3nm以下高端芯片制造不可或缺的EUV光刻机，却只有荷兰的ASML公司，单台售价约1.2亿美元。而ASML公司的最新款光刻机将会在2025年推出，单台售价预计超过3亿美元。
曾经有人指出，中国大陆的光刻机落后国际十五年。这是因为由于《瓦森纳协定》的限制，荷兰公司的EUV光刻机却不能供给给中国用户所以我国芯片制造能力止步于14nm，而且在全球100强芯片厂商中，中国的芯片企业就占据42家，但是主要都是生产28nm以上的中低端芯片。
要知道，EUV光刻机10万多个关键零部件，一个零部件没有达到标准，整个EUV光刻机就前功尽弃。这是为什么，EUV光刻机在芯片界能有这样的地位，它一直是人类历史上最为复杂、售价最高的超高精度商用（非军用）设备之一。而我国当前欠缺的正是EUV光刻机生产离不开的芯片装备产业链的综合实力。
高龙远